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辦公研發(fā)外高橋H2產(chǎn)業(yè)園 集成電路研發(fā)測(cè)試 環(huán)評(píng)園區(qū)

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所在地: 直轄市 上海
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發(fā)布時(shí)間: 2023-11-23 22:16
最后更新: 2024-08-28 13:23
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外高橋 H2 產(chǎn)業(yè)園區(qū) XIN PARK 占地面積 76399m2(115 畝),地上建筑面積 112866m2,地下建筑面積 35436m2。園區(qū)容積率 1.45,地下車位 890個(gè)。園區(qū)由 13 幢建筑組成,采用“8+4+1”布局結(jié)構(gòu),即 8 幢雙拼獨(dú)棟(6-13)、4 幢聯(lián)排研發(fā)(2-5)、1 幢園區(qū)綜合服務(wù) HUB(1)。園區(qū)用地性質(zhì)為工業(yè)用地(104 地塊),建筑類型丙類多層,兼容研發(fā)、辦公、生產(chǎn)等,可環(huán)評(píng)。主體區(qū)域毛坯交付,公共區(qū)域精裝交付。

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